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用光学厚度监测系统管理涂层均匀性的方法

摘要

本发明的主题是一种在物理气相沉积系统中管理衬底上的涂覆厚度的方法。所述方法应用于包括多光束激光监测系统和具有多掩模组的均匀性控制系统的所述系统。所述方法包括以下步骤:计算穿过涂层的激光透射率的误差函数,基于误差函数与预定常数之间的比较来停止沉积过程,比较所有激光束之间的沉积速率,识别具有不同沉积速率的涂层区域,调整多掩模组以在下一沉积过程中改变该涂层区域上的沉积速率,并恢复下一涂层的沉积过程,直到实现均匀涂覆厚度。

著录项

  • 公开/公告号CN110344017A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-10-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 程实平;

    申请/专利号CN201910235284.5

  • 发明设计人 程实平;

    申请日2019-03-26

  • 分类号C23C14/54(20060101);C23C14/04(20060101);

  • 代理机构44245 广州市华学知识产权代理有限公司;

  • 代理人裘晖

  • 地址 美国加利福尼亚州圣何塞

  • 入库时间 2024-02-19 14:12:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-12-06

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/54 申请日:20190326

    实质审查的生效

  • 2019-10-18

    公开

    公开

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