首页> 中国专利> 用于高阶模式抑制的方法、系统和设备

用于高阶模式抑制的方法、系统和设备

摘要

一种激光二极管垂直外延结构,包括:横向波导,所述横向波导包括在n型半导体层和p型半导体层之间的有源层,其中所述横向波导由在横向波导的n侧上的低折射率n包覆层和在横向波导的p侧上的低折射率p包覆层界定;侧向波导,所述侧向波导正交于所述横向波导,其中,所述侧向波导在纵向上在第一端由涂覆有高反射器(HR)涂层的腔面界定并且在第二端由涂覆有部分反射器(PR)涂层的腔面界定;以及高阶模式抑制层(HOMSL),所述高阶模式抑制层被设置为邻近侧向波导的至少一个侧边并且所述高阶模式抑制层在纵向上延伸。

著录项

  • 公开/公告号CN110114945A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-08-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 恩耐公司;

    申请/专利号CN201780080733.2

  • 发明设计人 M·坎斯卡;陈之纲;

    申请日2017-10-27

  • 分类号

  • 代理机构永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人张伟

  • 地址 美国华盛顿州

  • 入库时间 2024-02-19 13:17:43

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-10-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01S5/20 申请日:20171027

    实质审查的生效

  • 2019-08-09

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号