在非二维初始结构上光刻生成目标结构的方法和装置

摘要

本发明涉及一种用于通过借助于至少一个光刻光束(060)曝光光刻胶(100)在非二维初始结构(010)上光刻生成目标结构(030)的方法和装置。该方法包括以下步骤：a)检测非二维初始结构(010)的表面的构形(020)；b)将至少一个测试参数用于光刻光束(060)并确定光刻光束(060)与初始结构(010)的相互作用以及由此引起的光刻光束(060)和/或要生成的目标结构(030)的变化；c)确定光刻光束(060)的至少一个校正参数，使得由光刻光束(060)与初始结构(010)的相互作用引起的光刻光束(060)和/或目标结构(030)的变化减少；以及d)通过使用用于光刻光束的至少一个校正参数(060)借助于至少一个光刻光束(060)曝光光刻胶(100)在初始结构(010)上生成期望的目标结构(030)。该方法和装置使得能够在已经存在的非二维初始结构(010)上以高精度光刻生成高分辨率的三维目标结构(030)。