公开/公告号CN110061335A
专利类型发明专利
公开/公告日2019-07-26
原文格式PDF
申请/专利权人 南京星隐科技发展有限公司;
申请/专利号CN201910366726.X
申请日2019-05-05
分类号H01P3/00(20060101);H01P11/00(20060101);
代理机构44224 广州华进联合专利商标代理有限公司;
代理人刘玉花;闫晓欣
地址 211100 江苏省南京市江宁区东麒路6号A座11楼
入库时间 2024-02-19 12:18:13
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-08-20
实质审查的生效 IPC(主分类):H01P3/00 申请日:20190505
实质审查的生效
2019-07-26
公开
公开
机译: 折射率n深度e在小于1.55的n深度e小于1.72的区域内的含硼硅酸锆,向下的值ny deep e在大于50且ny deep e大于34的范围内,并且负数零件色散值异常差-3,0至-7,7,及其制备方法
机译: 一种在光学系统中具有近零折射率的双曲线材料的制造方法
机译: 集成阻抗匹配的光子零折射率超材料