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具有瞬时剂量率辐射加固结构的横向SOI高压器件

摘要

本发明提供一种具有瞬时剂量率辐射加固结构的横向SOI高压器件,包括第二型掺杂杂质半导体衬底、第一型掺杂杂质漂移区、第二型掺杂杂质阱区、第二型掺杂杂质接触区、第一型掺杂杂质源区、第一型掺杂杂质阱区、第一型掺杂杂质漏区、栅氧化层、埋氧层、栅电极、源电极和漏电极;在所述的第二型掺杂杂质阱区和第一型掺杂杂质漂移区交界的地方还设置有绝缘介质埋层,本发明提供的横向高压器件可减少瞬时光电流的产生并避免寄生效应引起器件的烧毁,以此来提高器件抗瞬时剂量率辐射的能力。

著录项

  • 公开/公告号CN109904237A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-06-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 电子科技大学;

    申请/专利号CN201910203095.X

  • 申请日2019-03-18

  • 分类号H01L29/78(20060101);H01L29/06(20060101);

  • 代理机构51232 成都点睛专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人敖欢;葛启函

  • 地址 611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号

  • 入库时间 2024-02-19 11:32:30

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-07-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/78 申请日:20190318

    实质审查的生效

  • 2019-06-18

    公开

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