测定陶瓷或玻璃质材料主体中成分浓度的方法

摘要

本申请涉及用于测定陶瓷或玻璃质材料主体中成分浓度的方法。已知用于测定陶瓷或玻璃质材料主体中成分浓度的测量方法，其中测定在测量方向上穿透所述陶瓷或玻璃质材料主体的测量波的光学路径长度或信号传播时间，并且加以评估。由此而始，为了表明用于测定陶瓷或玻璃质材料主体中成分浓度的非破坏性方法也适用于相关主体的生产过程中的测量，根据本发明建议将调制千兆赫兹辐射用作测量波。