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低功函数导电栅极的金刚石基场效应晶体管及其制备方法

摘要

本发明公开了一种低功函数导电栅极的金刚石基场效应晶体管及其制备方法,包括:金刚石衬底;金刚石衬底上设有一层单晶金刚石外延薄膜;单晶金刚石外延薄膜上设置有源极和漏极;源极和漏极之间的单晶金刚石外延薄膜上形成有导电沟道;导电沟道上设置有低功函数导电栅极层,低功函数导电栅极层上设置有栅电极;其中,低功函数导电栅极层与导电沟道接触,能够产生达到预设阈值的势垒高度,用于夹断沟道。本发明的金刚石基场效应晶体管,利用肖特基势垒产生的空间电荷区将氢终端金刚石表面产生的二维空穴气完全耗尽,夹断沟道实现常关型器件特性;本发明不会损伤导电沟道的性能,同时能够保证器件源漏之间的电流通过能力。

著录项

  • 公开/公告号CN109904227A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-06-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安交通大学;

    申请/专利号CN201910194062.3

  • 申请日2019-03-14

  • 分类号H01L29/778(20060101);H01L29/47(20060101);H01L21/335(20060101);

  • 代理机构61200 西安通大专利代理有限责任公司;

  • 代理人徐文权

  • 地址 710049 陕西省西安市咸宁西路28号

  • 入库时间 2024-02-19 11:27:57

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-07-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/778 申请日:20190314

    实质审查的生效

  • 2019-06-18

    公开

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