多重三维纳米结构的侧壁辅助制备方法

摘要

本发明提供了一种多重三维纳米结构的侧壁辅助制备方法，属于三维光电器件加工方法技术领域，其步骤包括：在基底上旋涂光敏感树脂或电子敏感树脂；通过光刻或者电子束刻蚀对应的光敏感树脂或电子敏感树脂，以构建三维模板，使得三维模板内形成预定形状的树脂微腔；在所述三维模板上通过沉积方法沉积预定材料；剥离所述三维模板表面的所述预定材料；去除所述三维模板的所述光敏感树脂或电子敏感树脂，以获得预定材料的多重三维纳米结构。本发明提供的多重三维纳米结构的侧壁辅助制备方法，能够制备复杂多重三维纳米结构，并简化其制备难度，提高制备效率。