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对薄膜进行计量分析的装置及方法与获得薄膜性质的方法

摘要

一种对薄膜执行计量分析的方法包括:将辐射耦合到邻近所述薄膜的表面设置的光学元件中。所述辐射被耦合成使得所述辐射在所述光学元件与所述薄膜之间的界面处被全内反射。在所述界面处产生的消散辐射穿透所述薄膜。所述方法还包括:分析被所述薄膜散射的所述消散辐射以获得所述薄膜的性质。

著录项

  • 公开/公告号CN109786277A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-05-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 台湾积体电路制造股份有限公司;

    申请/专利号CN201811019709.0

  • 发明设计人 应继锋;牛宝华;苏纮仪;

    申请日2018-09-03

  • 分类号H01L21/66(20060101);

  • 代理机构11270 北京派特恩知识产权代理有限公司;

  • 代理人康艳青;姚开丽

  • 地址 中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行六路八号

  • 入库时间 2024-02-19 11:09:28

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-06-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/66 申请日:20180903

    实质审查的生效

  • 2019-05-21

    公开

    公开

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