激光功率校准方法、装置、系统以及激光功率校准设备

摘要

本发明涉及半导体技术领域，公开了一种激光功率校准方法、装置及系统，其中，方法包括：接收发射端反馈的第一功率；将所述第一功率与所述发射端预设的第二功率做差值比较；在所述差值超出预设范围时，控制所述发射端的输出功率为第三功率，其中，所述第三功率为所述第一功率与所述第二功率的平均功率。由此可见，利用本发明方案，能够克服由于PVT变化带来的非理想效应，使发射端产生功率可控且稳定的激光输出信号。