薄膜光学常数随温度变化的测量装置与测量方法

摘要

一种薄膜光学常数随温度变化的测量装置与测量方法，通过对薄膜样品在密闭环境中控温加热，分别测量同一样品的基底和膜面随温度变化的椭偏参数，以相同温度下所测量的基底光学常数作为膜层光学常数拟合的基底参数，排除基底在受热过程中面形及光学特性变化而对膜层测量结果的影响，实现薄膜光学常数随温度变化的精确测量。本发明中薄膜光学常数的测量有效排除基底特性随温度变化的影响提高测量精度。测量过程中严格控制变量条件，减小测量误差，操作简单有效，有利于提高测量的精确性和稳定性。