法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-07-12
实质审查的生效 IPC(主分类):C22B34/32 申请日:20190403
实质审查的生效
2019-06-18
公开
公开
机译: 一种还原氧化铬和铬的方法,用于制备无碳合金。
机译: 通过在氧化铬或铬掩膜层上提供掩膜,蚀刻氧化铬或铬掩膜层,并在等离子体中使用硬掩膜选择性蚀刻难熔金属氮化硅相移层来生产半色调相掩膜
机译: 一种使用碳还原剂直接还原隧道窑中氧化铬铁矿细粉复合团聚体的方法,该还原剂用于生产还原的铬铁矿产品/团聚体,适用于铁铬铁或装料铬铁的生产。