首页> 中国专利> 一种禁带宽度可调的铬掺杂锡酸钡纳米多孔薄膜及制备方法

一种禁带宽度可调的铬掺杂锡酸钡纳米多孔薄膜及制备方法

摘要

本发明涉及一种禁带宽度可调的铬掺杂锡酸钡纳米多孔薄膜及制备方法,所述纳米多孔薄膜通过将由铬掺杂锡酸钡纳米颗粒和有机溶剂混合得到的前驱胶体溶液涂覆在衬底上后经热处理而得到,所述铬掺杂锡酸钡纳米多孔薄膜的无机成分为BaSn1‑xCrxO3,其中0≤x≤0.5。

著录项

  • 公开/公告号CN109728168A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-05-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院上海硅酸盐研究所;

    申请/专利号CN201811618780.0

  • 发明设计人 高相东;张彤彤;杨京南;吴永庆;

    申请日2018-12-28

  • 分类号H01L51/42(20060101);H01L51/46(20060101);H01L51/48(20060101);B82Y10/00(20110101);B82Y30/00(20110101);

  • 代理机构31261 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人曹芳玲;郑优丽

  • 地址 200050 上海市长宁区定西路1295号

  • 入库时间 2024-02-19 09:48:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-05-31

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L51/42 申请日:20181228

    实质审查的生效

  • 2019-05-07

    公开

    公开

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