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一种具有隧道结的氮化镓基发光二极管外延制备方法

摘要

本发明公开了一种具有隧道结的氮化镓基发光二极管外延制备方法,包括如下步骤:步骤S1、在一衬底上,生长氮化镓基的缓冲层、第一n型半导体层、有源层和p型半导体层;步骤S2、对所述p型半导体层进行活化;步骤S3、对所述活化后的p型半导体层进行表面处理,去除表面污染物;步骤S4、在所述表面处理后的p型半导体层上,生长氮化镓基的第二n型半导体层。本发明的优点在于:采用二次外延的方法实现p++/n++重掺杂的隧道结,避免了MOCVD一次外延生长中存在的Mg记忆效应的问题,可以得到界面掺杂浓度陡峭的隧道结;在二次外延生长第二n型半导体层之前,对p型半导体层高温退火进行活化,避免p型半导体层被第二n型半导体层覆盖后难以活化的问题。

著录项

  • 公开/公告号CN109616557A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-04-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 江西兆驰半导体有限公司;

    申请/专利号CN201811391765.7

  • 发明设计人 顾伟;

    申请日2018-11-21

  • 分类号H01L33/00(20100101);H01L33/32(20100101);C23C16/44(20060101);C23C16/34(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 330000 江西省南昌市南昌高新技术产业开发区高新二路18号创业大厦503、515室

  • 入库时间 2024-02-19 09:26:47

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-04-12

    公开

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