首页> 中国专利> 一种四角双锥阵列组成的双光栅纳米结构及其制备方法

一种四角双锥阵列组成的双光栅纳米结构及其制备方法

摘要

一种四角双锥阵列组成的双光栅纳米结构,涉及光学器件领域,其包括多孔硅基底,以及多个光栅纳米结构单元。光栅纳米结构单元的形状均为四角双锥,一半埋于多孔硅基底内,一半暴露于多孔硅基底之外。该四角双锥形状的光栅纳米结构单元,能在空气和器件之间提供更加渐进的有效折射率分布,进而提高器件的光灵敏度、光能采集率等。一种四角双锥阵列组成的双光栅纳米结构的制备方法,其操作简单,对设备要求不高,可以及其方便地用于上述四角双锥阵列组成的双光栅纳米结构的制备。

著录项

  • 公开/公告号CN109581559A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-04-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 香港中文大学(深圳);

    申请/专利号CN201910090081.1

  • 发明设计人 张昭宇;袁牧锋;崔雨舟;

    申请日2019-01-29

  • 分类号G02B5/18(20060101);G03F1/80(20120101);G03F7/00(20060101);B82Y20/00(20110101);B82Y40/00(20110101);

  • 代理机构11371 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人逯恒

  • 地址 518000 广东省深圳市龙岗区龙城街道龙翔大道2001号

  • 入库时间 2024-02-19 09:04:37

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-04-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B5/18 申请日:20190129

    实质审查的生效

  • 2019-04-05

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号