一种折射率沿蓝宝石单晶光纤径向递减的包层及其制备方法

摘要

本发明公开了一种折射率沿蓝宝石单晶光纤径向递减的包层及其制备方法，属于光纤技术领域，在不同沉积温度下，利用原子层沉积(ALD)技术在蓝宝石单晶光纤表面分别沉积两层密度(折射率)不同的氧化铝薄膜，并进行退火，得到折射率沿光纤径向逐渐递减的包层。这种折射率沿光纤径向递减的氧化铝包层能够最大限度地降低光纤进行长距离传输时的光损耗，并起到有效保护光纤的作用。本发明利用原子层沉积技术制备的蓝宝石单晶光纤的包层具有很好的致密性，且包层的厚度可控，成膜质量较高。获得的氧化铝包层耐高温，折射率低，且低于或接近蓝宝石光纤的折射率，满足蓝宝石单晶光纤对于包层的要求。