一种无公害苦瓜栽培方法

摘要

本发明公开了一种无公害苦瓜栽培方法，涉及蔬菜种植领域，该方法包括以下步骤：挑选饱满、无破损和无病斑的苦瓜种子放置在温度为50～65℃、pH值为8～9.5的氢氧化钠溶液中，导入二氧化碳气体搅拌至温度为低于35℃后洗净；将洗净的种子加入水中，向水中加入抗菌材料保温1～2h，抗菌材料包括壳体结构，壳体结构中包裹有杀菌剂和气体释放载体，杀菌剂包括腐殖质；将洗净的种子恒温催芽，待种子破衣后，移至育苗床上进行育苗；待种苗生长至3～4叶进行移栽，并在移栽后搭设爬藤架。本发明能够降低农药的使用，增加苦瓜的经济价值，比较安全。