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分区对位模式的拼版曝光装置及其曝光方法

摘要

本发明涉及光学设备领域,解决现有技术的PCB板曝光设备曝光效率低的问题。包括有底座,设置在底座上曝光平台,用于PCB板Mark点识别的摄像头,以及PCB板曝光的曝光装置,曝光平台上分别设有两组用于放置PCB板的左PCB板定位条和右PCB板定位条,摄像头支架上对应左曝光区和右曝光区分别设有一个摄像头,摄像头滑动设置在摄像头支架上;曝光装置支架上对应左曝光区和右曝光区分别设有一个以上的曝光装置,底座上设有驱动曝光平台垂直摄像头支架和曝光装置支架移动的曝光平台驱动机构。可以同时对两块PCB板进行mark取点,同时对两块PCB板曝光,增加曝光平台利用率,同时提高了曝光效率,提升了制板产能。

著录项

  • 公开/公告号CN109270809A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-01-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 苏州微影激光技术有限公司;

    申请/专利号CN201811125799.1

  • 发明设计人 蔡志国;徐乡;王志;

    申请日2018-09-26

  • 分类号

  • 代理机构深圳市千纳专利代理有限公司;

  • 代理人刘洋

  • 地址 215000 江苏省苏州市虎丘区高新区火炬路85号

  • 入库时间 2024-02-19 07:20:05

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-02-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F9/00 申请日:20180926

    实质审查的生效

  • 2019-01-25

    公开

    公开

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