公开/公告号CN109270809A
专利类型发明专利
公开/公告日2019-01-25
原文格式PDF
申请/专利权人 苏州微影激光技术有限公司;
申请/专利号CN201811125799.1
申请日2018-09-26
分类号
代理机构深圳市千纳专利代理有限公司;
代理人刘洋
地址 215000 江苏省苏州市虎丘区高新区火炬路85号
入库时间 2024-02-19 07:20:05
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-02-26
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F9/00 申请日:20180926
实质审查的生效
2019-01-25
公开
公开
机译: 适用于形成图案的重复性曝光的投影曝光设备,一种使用其的投影曝光方法,一种制造曝光成员的方法以及一种包括曝光模式列的半导体装置
机译: 检测曝光掩模与被曝光物的相对位置的方法,对准方法以及使用该方法的曝光方法
机译: 检测曝光掩模与被曝光物的相对位置的方法,对准方法以及使用该方法的曝光方法