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基于波束路径的共聚焦微X射线荧光成像衰减校准方法

摘要

本发明提供一种基于波束路径的共聚焦微X射线荧光成像衰减校准方法,步骤如下:获取实验样品的XRF光谱;计算各个待校准元素在各个像素单元的初始强度;计算各个待校准元素在各个像素单元的强度占比;计算成像区域的平均密度;计算实验样品在成像区域的总质量;计算各个待校准元素的总质量;计算各个待校准元素在各个像素单元的质量;计算各个像素单元中的密度和各个待校准元素在各个像素单元中的质量占比;计算各个待校准元素的像素单元总质量衰减截面;计算各个待校准元素在各个像素单元中的校准强度;计算相邻两次校准强度的变化量,判断所述变化量是否小于阈值,若所述变化量小于阈值,则得到的校准强度即为校准后的强度。

著录项

  • 公开/公告号CN109324076A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-02-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国地质大学(武汉);

    申请/专利号CN201811383183.4

  • 发明设计人 刘鹏;冯宇;杨雁媛;徐勇;王焰新;

    申请日2018-11-20

  • 分类号

  • 代理机构武汉知产时代知识产权代理有限公司;

  • 代理人郝明琴

  • 地址 430000 湖北省武汉市洪山区鲁磨路388号

  • 入库时间 2024-02-19 06:49:52

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-03-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N23/223 申请日:20181120

    实质审查的生效

  • 2019-02-12

    公开

    公开

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