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设变光谱仪和光谱仪整合设计与制造方法

摘要

本发明公开了一种设变光谱仪的制造方法,包括如下步骤:取得一参照光谱仪的多个参照参数与至少一设定规格;整合参照光谱仪的参照参数的至少一必要参数到一设变光谱仪,使设变光谱仪具有相同于参照光谱仪的设定规格;依据光栅方程式得到设变光谱仪的多个自由参数;以及设定设变光谱仪的一设变入光组件于一设变壳体的一设变收光侧,使设变收光侧短于参照光谱仪的一参照壳体的一参照收光侧。

著录项

  • 公开/公告号CN109425430A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-03-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 台湾超微光学股份有限公司;

    申请/专利号CN201710789148.1

  • 申请日2017-09-05

  • 分类号

  • 代理机构北京国昊天诚知识产权代理有限公司;

  • 代理人许志勇

  • 地址 中国台湾新竹市东区新庄关新路27号9楼之5

  • 入库时间 2024-02-19 06:45:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-03-29

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01J3/28 申请日:20170905

    实质审查的生效

  • 2019-03-05

    公开

    公开

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