Etching ; Morphology ; Surface finishing ; Silica ; Fractures ; Glass ; Substrates ; Cracks ; Deformation ; Scattering ; Microscopy;
机译:HF / NH4F蚀刻对熔融石英表面断裂形貌的影响
机译:具有HF和NH4F的硅纳米线的刻蚀行为以及衰减全反射傅里叶变换红外光谱的表面表征:一维和二维硅表面之间的异同
机译:勘误表:Si衬底上SiO_2 NW的选择性合成及其可调节的光致发光[非晶体固体杂志,印刷中,校正后的证明,可在线获得,2010年8月18日](非晶体固体杂志)
机译:蚀刻参数对荧光辅助HF酸蚀刻熔融二氧化硅表面质量和激光损伤阈值的影响
机译:具有理想氢终止作用的化学蚀刻新表面清洁技术:silcon(111)和硅(100)表面的表面化学和形态。
机译:先前的酸蚀对自蚀胶与腔表面搪瓷的界面形态和结合强度的影响
机译:HF / HNO $ _3 $和KOH溶液中的深湿蚀刻对351 nm熔融石英光学元件的抗激光损伤性和表面质量的影响