COMPUTERIZED SIMULATION; HIGH PRESSURE; KINETICS; NUCLEATION; VAPOR PHASE EPITAXY; INDIUM COMPOUNDS; OPTICAL PROPERTIES; THIN FILMS; VAPOR DEPOSITION; TEMPERATURE DEPENDENCE; STOICHIOMETRY; SOLIDUS; MISCIBILITY GAP; MELTING POINTS;
机译:氢输入分压对金属有机气相外延生长的GaAs(111)A上InN极性的影响
机译:通过液相外延,气相外延和金属有机化学气相沉积法生长的GaxIn1-xAs(0.44≪x≪0.49)的光学和晶体学性质以及杂质掺入
机译:InN选择区金属有机气相外延的动力学分析
机译:高压局部气相外延中的实时光学监测与气相动力学仿真
机译:通过低压金属有机气相外延生长以及氮化镓和氮化铟镓薄膜的表面特性。
机译:直接模拟蒙特卡洛法研究载气流速和源电池温度对低压有机气相沉积模拟的影响
机译:NH3输入分压高对氮化(0001)蓝宝石衬底对InN的氢化物气相外延的影响