机译:压力高达1000巴,温度高达3000 K的空气状态方程。 Equation Detat de Lair pour Une pression Inferieure 1000 Bar et Une Temperature Inferieure a 3000 K
机译:SiO_(2aq)的状态方程,用于描述温度为0-600摄氏度,压力为1-1000巴时二氧化硅的溶解
机译:温度在1000至6000 K且压力介于1至50 bar之间的空气条件下,Ag-SiO_2等离子体的组成,焓和蒸发温度计算
机译:在20-500摄氏度的温度范围内以1000 bar的恒定压力作用于1.1 M NaCl水溶液的对相关函数
机译:扩展的密度方程式,可在水温(0-1000°C)和压力(1-10000 bar)的宽范围内计算石英在水-盐-CO2系统中的溶解度
机译:在流量为10至20的马赫数,停滞温度为1000 K,电弧功率高达127 KW的“定向能空气尖峰”入口上进行实验压力和传热研究。
机译:高应变率和温度下铝合金AW 5005铝合金AW 5005近界面摩擦和标本配置的动态行为
机译:液体和超临界NaCl水溶液中的结构和氢键在1000巴的压力和高达500°C的温度下:综合实验和计算研究
机译:Etude d'UN Refrigerateur magnetique a Vocation spatiale pour des Temperatures Inferieures a 20 Kelvins(研究磁性冰箱用于空间应用和温度低于20K)