Semiconductor Devices; MOS Transistors; Nondestructive Testing; Performance Testing; Quality Assurance; Radiation Hardening; Space Flight; Uses; Weapons; X Radiation; Meetings; EDB/440200;
机译:通过用离子注入改性掩埋氧化物层来提高绝缘体上硅材料的总剂量辐照硬度
机译:通过用离子注入改性掩埋氧化物层,提高绝缘体上硅材料的总剂量辐照硬度
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机译:SOI 4门晶体管(G〜4-FET)的总剂量辐射硬度
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机译:非晶WO3:第一原理方法:第一原理方法