Photovoltaic devices; Plasma; Performance; Solar cells; Silicon;
机译:沉积温度和热退火对半导体器件干法刻蚀工艺中a-C:H膜干法刻蚀速率的影响
机译:使用超高真空原位干法刻蚀和沉积处理系统制造的具有高质量干法刻蚀镜的AlGaAs激光器
机译:非卤代溶剂加工的三元共混太阳能电池通过非富勒烯受体的烷基侧链工程及其在大面积器件中的应用
机译:使用氮化硅牺牲层的微机电器件的干法刻蚀工艺
机译:磷化铟和磷化铟基量子阱的深反应离子刻蚀,用于光子器件加工。
机译:用于有机设备的超光滑完全溶液处理的大面积透明导电电极
机译:大面积器件的高通量干法工艺