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【24h】

LES RESISTS MONOMOLECULAIRES :UNE NOUVELLE CLASSE DE RESISTS A HAUTE RESOLUTION POUR LA MICROLITHOGRAPHIE PAR FAISCEAU D'ELECTRON

机译:单分子电阻:电子束微观成像的一类新的高分辨率电阻

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摘要

Nous décrivons une nouvelle classe d'élsctron-résists ultra-minces (30 à 1000 A) à base de couches monomoléculaires. Ces résists néga¬tifs permettent, par un choix judicieux de la tension d'accélération, d'ob¬tenir de très hautes résolutions même sur substrat épais. Nous montrons que le couple épaisseur-tension est le facteur principal pour la résolution, le contraste étant secondaire. Ces propriétés sont illustrées par un exemple, celui de l'acide w-tricosénoïque, qui permet d'obtenir une resolution de 600 A après développement à l'aide d'un film de 450 A d'épaisseur, malgré un contraste de 0.7.

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