Tokamak Devices; Charged-Particle Transport; Impurities; Limiters; Mathematical Models; Plasma Scrape-Off Layer; Plasma Simulation;
机译:托卡马克边缘等离子体中杂质新古典输运的扩展数值模型
机译:等离子体面壁中边缘等离子体的杂质传输模型和RIT共沉积
机译:托卡马克边缘等离子体中杂质湍流传输的间歇性表征
机译:锂传输建模及其对T-15MD Tokamak边缘等离子体参数的影响
机译:3d等离子体边缘运输和瓦登斯坦7-X Limiter和Island Devertor情景中的散热速度= Wendelstein 7-X Limiter和Island Viverts情景中的3D Plasmarandschiptransport和辐射冷却
机译:JT-60U H型等离子体中径向电场对边缘传输势垒形成的非均匀效应的实验验证
机译:响应“评论”解释马乳形成和随后进化到分离对称等离子体边缘'物理。 Plasmas 3,2673(1996),'Marfe杂质密度限制在托卡马克与针状不比率和旋转'物理。等离子体3,3032(1996)和“由外边缘加热的Marfe抑制”物理。 Plasmas 4,134(1997)