Chemical vapor deposition; Photoelectric emission; Energy conversion; Valence bands; Electron irradiation; Boron carbides; Detection; Spectroscopy; Semiconductors; Cobalt; Neutrons; Decomposition; Dilution; Doping; Room temperature; Low energy; Electron energy; Fermi surfaces; Plasmas(Physics); Theses;
机译:碳化硼与钴茂铁的成对钴掺杂
机译:使用钴并用钴掺杂碳化硼
机译:等离子体沉积的B_10C_2H_x薄膜的光诱导位点氮化:半导体碳化硼沉积后掺杂的新途径
机译:铬掺杂半导体碳化硼的局部结构和Ⅰ-Ⅴ特性
机译:Closo-Carbane的光致碎裂过程和过渡金属掺杂的半导体碳化硼薄膜的局部结构。
机译:碳化钨和掺钴碳化钨纳米粒子对哺乳动物细胞的体外毒性
机译:成对钴掺杂硼碳化物与钴茂