Crystals; Quantum theory; Thin films; Interference; Layers; Molecules; Reprints; Scale; Thickness; Overlays;
机译:蒙特卡罗计算能量范围为50-400 MeV的质子的EBT3和EBT-XD薄膜的质量阻止能力
机译:CeO_2薄膜受相同核阻和不同电子阻隔功率的离子辐照损伤
机译:核电子停止能力对杂化硅酸盐薄膜转化的影响
机译:密度函数计算作为用于表征超薄有机膜,合成和RDX“单层”在玻璃基板上的合成和光谱表征的工具
机译:计算分子停电功率的理论模型。
机译:蒙特卡洛计算能量范围为50–400 MeV的质子的EBT3和EBT-XD薄膜的质量阻止能力
机译:停止沉积在自支撑铝箔上的Lif薄膜的力量,用于Swift质子