Prozesssichere Endreinigung von Mikrostrukturen

摘要

Die technologische Weiterentwicklung im Bereich Mikrostrukturen und die Bearbeitung grosserer Substrate machten bei der POG Prazisionsoptik Gera ein neues Endreinigungssystem erforderlich. Uberzeugt hat ein Anlagenkonzept, mit dem sich sowohl unbearbeitete Wafer als auch strukturierte und beschichtete Substrate reinigen lassen.