Leistungsfahige UV/H2O2-Mietanlage

摘要

Ob zur Badpflege von Wattschen Nickelelektrolyten oder sauren Hochleistungskupferbadern in der Leiterplattenproduktion: mittels UV/H2O2-Technologie werden Galvanoelektrolyte auch mit hochster organischer Belastung (TOC) wieder in den jungfraulichen Originalzustand eines Neuansatzes uberfuhrt. Hat man hinsichtlich Beschichtungsfeh-ler, Haftungsproblemen oder Abscheidungsphano-mene das Kreislaufwasser in Verdacht? Bereits geringste TOC-Konzentrationen von beispielsweise < 5 ppm und tiefer, sind dafur haufig die Ursache. Mittels UV-Anwendung wird eine markante Qualitatssteigerung des Kreislaufwassers erzielt und eine unterschatzte oder haufig nicht erkannte Fehlerquelle eliminiert.