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Comment on 'Schottky diodes with a δ-doped near-surface layer' J. Appl. Phys. 90, 6205 (2001)

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摘要

The influence of planar δ-doping on the effective parameters of Schottky diodes was modeled by J. Osvald J. Appl. Phys. 90, 6205 (2001). In this Comment we emphasize that the proposed analysis based on the drift-diffusion model does not seem to be fully correct for the system in question. Neglect of the tunneling effects in Schottky diode with isotype δ-layer inserted near the metal-semiconductor interface leads to wrong speculations about the effective barrier height and ideality factor.

著录项

  • 来源
    《Journal of Applied Physics 》 |2004年第4期| 2190-2191| 共2页
  • 作者

    V. Shashkin; A. Murel;

  • 作者单位

    Institute for Physics of Microstructures, Russian Academy of Science, Nizhny Novgorod, GSP-105, Russia;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 英语
  • 中图分类 应用物理学 ;
  • 关键词

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