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机译:通过两步蚀刻方法在(100)InP表面上形成均匀且方形的纳米孔阵列
机译:通过两步蚀刻方法在(100)InP表面上形成均匀且方形的纳米孔阵列
机译:在HCl基电解质中通过电化学阳极氧化自组装形成均匀的InP纳米孔阵列
机译:HF水溶液中n-Si(100)表面各向异性电化学刻蚀形成大孔阵列的区域选择性形成
机译:通过湿的电化学工艺在INP(001)表面上的亚诺级选择性蚀刻和纳米尺度孔阵列形成
机译:具有理想氢终止作用的化学蚀刻新表面清洁技术:silcon(111)和硅(100)表面的表面化学和形态。
机译:使用两步金属辅助化学刻蚀方法由冶金级硅粉形成硅纳米线填充膜
机译:在HCl基电解质中通过电化学阳极氧化自组装形成均匀的InP纳米孔阵列