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Impurity (Si) concentration effects on radiationhyphen;induced deep traps innhyphen;InP

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摘要

Impurity concentration effects on radiation defects and minority carrier (hole) diffusion length in 1hyphen;MeV electron irradiatednhyphen;InP have been studied by deep level transient spectroscopy and the electron beam induced current method. Trap concentrations are found to markedly decrease with an increase in the Sihyphen;impurity concentration. It is also indicated that Sihyphen;impurity doping more than 1017cmminus;3of concentration shows a strong suppression effect on degradation in minority carrier diffusion length, caused by electron irradiation innhyphen;InP.

著录项

  • 来源
    《journal of applied physics 》 |1984年第12期| 4444-4446| 共页
  • 作者

    K. Ando; M. Yamaguchi; C. Uemura;

  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 英语
  • 中图分类
  • 关键词

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