設計と露光のツールを統合歩留まり・コスト改善へ

摘要

EDAベンダーである米Synopsys，Inc.が，従来は製造側の責任と見られていた歩留まり改善のための技術ソリューションを開発した。 設計例の意図を製造側に反映させたり，製造側の状況に合わせた設計を実現したりできるEDAツールを開発，歩留まりや製造関連の問題を，EDAツーレによって解決しようとしている。 具体的には，EDAツールによって露光のプロセス余裕度を拡大する，マスクーコストを削減する，検査工程を簡略化する，といったことを実現している。