新露光技術「液浸」が急展開45nm向けに戦略を再構築

摘要

「45nmのリソグラフィ（露光）の光源には波長157nmのF_2レーザー」。 そんな見方がここに来て急速に変わり始めている。130～65nm向けに使われてきた波長193nmのArFレーザーを45nm向けにも使う「ArF液浸」技術を採用しようという動きが出てきたからである。ArF液浸は，開口数（NA）を高められる水中でレーザー光を収束させて解像度を高める技術である。 レーザー光の短波長化で解像度を高めてきた従来の流れとは一線を画す。 とはいえ，F_2の芽がなくなったわけではなく，装置メーカーは両方の技術の開発を続けている。 オランダASM Lithography（ASML），キヤノン，ニコンの装置メーカー大手3社の技術戦略と共に最新情報を報告する。