Mit Flossen in die Halbleiter-Zukunft: Aktuelle Roadmaps belegen, dass die FinFET-Technologie eine wichtige Rolle fur die Halbleiter-Entwicklung spielt.

摘要

Die FinFET-Technologie mildert mehrere wesentliche Herausforderungen ab, die sich bei der weiteren Skalierung planarer Bulk-CMOS-Strukturen ergeben. Auf der anderen Seite jedoch verschlimmern sich mit jedem Skalierungsschritt sowohl andere mit der Lithografie verknupften Probleme wie beispielsweise Toleranzen bei der Double-Patterning-Maskenausrichtung als auch Zuverlassigkeits- und Performance-Probleme durch Alterung. Daher mussen die Moglichkeiten und Herausforderungen, die sich aus der Einfuhrung des FinFET-Elements ergeben, den Problemen und Komplexitaten hinsichtlich Fertigung und Zuverlassigkeit im Falle weiterer Skalierung gegenubergestellt werden.