自己クローニング型フォトニック結晶導波路の低損失化

摘要

自己クローニング法により作製されるヘテロ構造フォトニック結晶導波路は，他の機能性素子と一括作製が可能なため，次世代高機能平面光回路用の要素部品として有利である．本導波路を光回路の配線として利用する場合，その伝搬損はできるだけ小さいことが望まれる．今回は，構成材料にTa2O5/SiO2を選択し，更に散乱損を最小限に抑える導波路構造を採用することで，大幅な低損失化に成功したので報告する．特に，コアをシンプルな平たん多層膜構造とすることが効果的で，伝搬損0.1 dB/mmまでの損失低減を達成した．本導波路は，既存の光ファイバ（モードフィールド径2.7 μmの高Δファイバ）との結合損も0.43 dBと小さく，光ファイバ通信システムへの適用が容易である．以上により，ヘテロ構造フォトニック結晶導波路が，極めて実用性に富む素子であることを実証した．