...
【24h】

イオンビーム源の最近の動向

机译:离子束源的最新趋势

获取原文
获取原文并翻译 | 示例

摘要

最近新しく開発されたり,イオン応用に利用されているイオンビーム源について解説する.イオンビーム源には,新しいイオンの発生そのものに興味があり研究が進められているものと,イオンを応用する側からの要請によって研究されているものがある.前者の一つとして,できるだけ高い価数をもつ多価イオンの発生があり,そのためのイオン源としてECRイオン源やEBISなどが継続的に研究されている.負イオンも新しいイオンとして注目されその発生機構について研究が行われているが,同時にそれらの応用も進められている.イオンを応用する側からは,新しい構造の金属イオン源,稀同位体元素のためのイオン源,医学応用のために適するイオン源,工業応用のためのイオン源,加速器入射用のイオン源,イオンロケット,核融合のための水素イオン源などの開発要請があり,それぞれの分野ごとに種々のイオン源が研究されている.
机译:离子束源有两种类型:一种是对新离子本身的产生感兴趣并正在研究的离子束源,另一种是应离子应用的要求进行研究的离子束源。 负离子作为新离子也备受关注,其生成机理正在研究中,但同时其应用也在不断推进。有开发用于核聚变的氢离子源的要求,每个领域都在研究各种离子源。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号