テラヘルツ帯光学薄膜技術

摘要

可視光や近赤外線における多層膜光学薄膜技術は確立された技術であり、反射防止膜、高反射膜、各種フィルターなど各種の機能を実現するために一般的に使われている。 一方、テラヘルツ帯 ═Hz帯 篺=0.3-10THz，λ=1000-30 μm）と呼ばれる領域において、単層膜技術は幾つかあるが多層膜光学薄膜技術は未成熟である。 この波長帯では各層の膜厚が数～数十 μmと非常に厚くなるために製造が困難となるからである。 原料にシラン（SH_4）と酸素（O_2）を用いたプラズマ励起化学的気相成長法によるTHz帯光学薄膜製作技術を新たに開発した。 これによりシリコン（Si）とシリコン酸化物（SiO_x）からなる多層光学膜を現実的な時間と費用の範囲で製作することができるようになった。 本方法や試作した単層・多層光学膜の光学特性について述べる。