機能薄膜部会ナノ構造機能創成専門部会第7回研究会開催報告

摘要

2017年6月29日に機能薄膜部会，ナノ構造機能創成専門部会第7回研究会が東京工業大学大岡山キャンパスにて開催された。第7回を迎える本研究会では，近年プラズマプロセスとして大きく注目を集めている「大電力パルススパッタリング」，通称HiPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering）プラズマ技術に関する話題を特集した。HIPIMS技術は，1kHz以下の低周波数かつ数10～数100いS程度の短いパルス幅でターゲットに電圧を印加し，プラズマ中に数kW cm~(-2)の大電力を投入することで，従来の直流スパッタの1000倍以上となる10~（19）m~（-3）程度の高い電子密度を有するプラズマを形成するスパッタリング技術である。従来技術に次ぐ新しいイオン化物理蒸着（I-PVD）法として着目され，2000年代を皮切りに欧州を中心に盛んに研究開発が行われ，近年日本国内でもHiPIMSシステム導入の動きが活発になりつつある。