実験室系硬X線光電子分光法の展開

摘要

デバイスの性能を決定づける要因である埋もれた界面の評価手法の一つとして，従来のAlKα（1486.6eV）やMgKα（1253.6eV）を用いたX線光電子分光法（X-ray Photoelectron Spectroscopy, XPS）よりも高いエネルギーのX線を使用した硬X線光電子分光法（Hard X-ray Photoelectron Spectroscopy, HAXPES）が注目されている。特に近年，実験室に設置可能なHAXPES装置が開発され，放射光施設に加えて広く利川されっっある。