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次世代半導体保護膜向け低温硬化型ポジ型感光性ポリイミドを開発

机译:为下一代半导体保护膜开发低温僵硬型阳性聚酰亚胺

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摘要

東レ(株)は、新たな分子設計技術と架橋技術により、高い耐薬品性や耐熱性を実現しながら170℃の低温硬化ができ、かつ残留応力が従来の低温硬化型材料の約半分となる13MPa以下のポジ型感光性ポリイミドの開発に成功した。
机译:Toray Co.,Ltd。拥有一种新的分子设计技术和一种交联技术,可以在170°C下实现高耐化学性和耐热性,而残留应力约为常规低温固化材料的一半。我们成功地开发了阳性聚酰亚胺为13MPa或更少。

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