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机译:Shinichi Maeda的最新实施技术这是Cram School中第116个IC芯片的3D实施
机译:日本表面真空学会関西支部第11回実用技術セミナー「光学成膜技術の基礎とその応用」開催報告
机译:[R-714]半導体素子の高性能化と三次元実装
机译:3次元実装化ヘ部品内蔵基板の採用拡大
机译:極薄微机电系统チップ実装技術の研究
机译:写真16-3浸蚀が进んで,この场合深さ约40cmあつた积雪层の底面が露われるほどにまで成长した。サストルギの高さ25~40cm,表面のザラザラした面(例えばビッケルの置いてあるところ)は一年冰の最上面を示す。