需要急増で世界的に供給タイト鮮明に

摘要

三弗化窒素（NF3）の10年需要量は1350tと前期比10％増と好調に推移、国内の半導体、液晶、太陽電池（PV）の新増設稼働が寄与した。11年以降も10％程度の増加ペースを維持する見方が強い。世界的には供給タイトが鮮明となっている。用途は液晶TFT向けのクリーニングや半導体のプラズマCVDでの層間絶縁膜、最終保護膜の形成で用いる。