パワーデバイス向けイオン注入装置2機種を開発、販売開始

摘要

アルバック（本社·神奈川県茅ヶ崎市、岩下節生執行役員社長）はパワーデバイス（IGBT）向け極薄ウエーハ対応の、倍加速·高濃度処理での生産性を大幅に向上させ処理時間を1／60（同社比）に削減した低加速高濃度イオン注入装置「SOPHI－30」と、駆動電力の損失軽減やスイッチング速度の高速化を改善し、加速電圧2.4MeVまで可能な高加速対応イオン注入装置「SOPHI-400」を開発、販売を開始した。