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机译:在氧化铝陶瓷上沉积氧化铬薄膜通过PECVD获得真空的表面闪络性能
Chinese Acad Sci Inst Elect Engn Beijing Int S&
T Cooperat Base Plasma Sci &
Energy Beijing 100190 Peoples R China;
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China Acad Engn Phys Inst Fluid Phys Mianyang 621900 Sichuan Peoples R China;
China Elect Power Res Inst State Key Lab Power Grid Environm Protect Wuhan Branch Wuhan 430074 Peoples R China;
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Atmospheric-pressure plasma enhanced chemical vapor deposition (AP-PECVD); Surface flashover; Surface modification; Vacuum; Aluminum ceramics;
机译:真空中直流电和交流电下闪络前氧化铝陶瓷表面的发光演化
机译:真空中氧化铝的陷阱分布与表面闪络性能的关系
机译:氧化铝陶瓷绝缘体表面上的微型侵蚀性,提高其闪络强度
机译:氧化铬涂层对真空下陶瓷表面飞弧特性的影响
机译:沉积的氧化硅的电,化学和热行为:PECVD,ECR和溅射膜之间的比较。
机译:通过沉积在Mo(110)衬底上生长的金纳米粒子上的金纳米粒子上的一氧化碳氧化:电荷隧穿通过氧化膜的效果
机译:真空中直流和交流电压下闪络前氧化铝陶瓷表面的发光演变
机译:利用表面增强拉曼光谱研究氧化铬薄膜的表面化学