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机译:用于保护石英玻璃表面的氧化钇膜通过长期暴露于室温下的氯三氟化物气体蚀刻
Yokohama Natl Univ 79-5 Tokiwadai Yokohama Kanagawa 2408501 Japan;
Technoquartz Inc 2-1-4 Zaomatsugaoka Yamagata 9902338 Japan;
Yokohama Natl Univ 79-5 Tokiwadai Yokohama Kanagawa 2408501 Japan;
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Yokohama Natl Univ 79-5 Tokiwadai Yokohama Kanagawa 2408501 Japan;
Yokohama Natl Univ 79-5 Tokiwadai Yokohama Kanagawa 2408501 Japan;
Yttrium oxide; Chlorine trifluoride gas; Coating film; Quartz glass; Etching;
机译:用于保护石英玻璃表面的氧化钇膜通过长期暴露于室温下的氯三氟化物气体蚀刻
机译:三氟化氯气体在室温下卤化聚酰亚胺薄膜表面
机译:三氟化氯气体对4H-碳化硅外延膜的刻蚀速率行为
机译:4H-碳化硅晶片表面在三氟化物气体蚀刻后
机译:自由基离子束蚀刻(RBIBE):钇钡氧化铜薄膜超导体的反应器表征和蚀刻。
机译:室温下含Ti(IV)配合物的前体膜的紫外线辐射在石英玻璃上光诱导超亲水薄膜
机译:用于保护石英玻璃表面的氧化钇膜通过在室温下长期暴露于氯三氟化氯气中的蚀刻
机译:急性暴露于氯气的长期后遗症:综述