机译:旋转近场光刻技术等级式飞行头的数值建模与分析
State Key Laboratory of Tribology Tsinghua University Beijing 100084 China;
State Key Laboratory of Tribology Tsinghua University Beijing 100084 China;
rotary near-field lithography (RNFL); coupled analysis; air bearing; finite element method;
机译:旋转近场光刻技术等离激元飞行头的数值建模与分析
机译:在近场光刻系统中,等离子飞行头在涂有光刻胶的表面上稳定飞行
机译:近场光学光刻应用于等离子体天线表征(Vol 59,PG 837,2016)
机译:等离子纳米孔的等离子光刻建模和近场测量
机译:等离子体波光刻工艺的电磁波模型,相场模型和热传递模型耦合建模与仿真。
机译:纳米球体光刻技术制备的等离激元纳米结构的光学近场图
机译:纳米光刻制备的等离子体纳米结构的光学近场映射
机译:型号D-4旋转式吹灰机头