机译:Ga3 +对基于新型水溶性硅化合物的高度均匀氧化物前体合成的取代的SR2SiO4的相转变和发光性能的影响
AISECT Univ Fac Sci Dept Chem Bhopal India;
AISECT Univ Fac Sci Dept Chem Bhopal India;
RTM Nagpur Univ Dept Phys Nagpur 440033 Maharashtra India;
DAV Coll PG Dept Phys &
Elect Amritsar 143001 Punjab India;
RTM Nagpur Univ Dept Phys Nagpur 440033 Maharashtra India;
Charge Compensator; Silicate; N-UV LED chip; Phosphor;
机译:Ga3 +对基于新型水溶性硅化合物的高度均匀氧化物前体合成的取代的SR2SiO4的相转变和发光性能的影响
机译:Al3 + / P5 +离子取代对Sr2SiO4的结构和发光性能的影响:Eu2 +白光发光二极管荧光粉
机译:锰对Mn掺杂Sr2SiO4的晶体结构和发光性能的影响:EU2 +磷光体
机译:均相沉淀法结合新型水溶性硅化合物低温合成高纯度强发射态Zn2Si04:Mn荧光粉
机译:MxMg2Al4 + xSi5-xO18:Eu2 +固溶体荧光粉的相形成及其发光特性的新认识
机译:阴离子/阳离子取代(SR2 + Ba2 +,Al3 + Si4 +,N3 O2)对Ba3Si6O15的相变性和发光性能的影响:Eu2 +磷光体